Real-Time Monitoring of the Surface Chemistry of Atomic Layer Deposition by Ambient Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy

Aktivitet: Föredrag eller presentationInbjuden talare

Detaljer

Titel Real-Time Monitoring of the Surface Chemistry of Atomic Layer Deposition by Ambient Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy
Person och roll
Beskrivning Inbjudet föredrag vid workshopen "Beating the Complexity of Matter through the Selectivity of X-rays", Helmholtz-Zentrum Berlin, Tyskland
Dato/periode

2019 sep 17

Relaterade organisationer
Inbjudet föredrag vid workshopen "Beating the Complexity of Matter through the Selectivity of X-rays", Helmholtz-Zentrum Berlin, Tyskland
2019 sep 17

Extern organisation (Forskningsinstitut)

NamnHelmholtz-Zentrum Berlin for Materials and Energy
AkronymHZB
PlatsHahn-Meitner-Platz 1
OrtBerlin
LandTyskland