Band alignment at the ZrO2/Si(100) interface studied by photoelectron and x-ray absorption spectroscopy

J. H. Richter, P. G. Karlsson, B. Sanyal, Jakob Blomquist, Per Uvdal, A. Sandell

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikel i vetenskaplig tidskriftPeer review

Fingeravtryck

Fördjupa i forskningsämnen för ”Band alignment at the ZrO2/Si(100) interface studied by photoelectron and x-ray absorption spectroscopy”. Tillsammans bildar de ett unikt fingeravtryck.

Engineering

Material Science

Physics