Impact of Temperature-Induced Oxide Defects on HfxZr1−xO2 Ferroelectric Tunnel Junction Memristor Performance

Forskningsoutput: TidskriftsbidragArtikel i vetenskaplig tidskriftPeer review

44 Nedladdningar (Pure)

Fingeravtryck

Fördjupa i forskningsämnen för ”Impact of Temperature-Induced Oxide Defects on HfxZr1−xO2 Ferroelectric Tunnel Junction Memristor Performance”. Tillsammans bildar de ett unikt fingeravtryck.

Engineering

Material Science