Investigation of polymethylmethacrylate resist residues using photoelectron microscopy

Ivan Maximov, AA Zakharov, Tommy Holmqvist, Lars Montelius, Ingolf Lindau

Forskningsoutput: Kapitel i bok/rapport/Conference proceedingKonferenspaper i proceedingPeer review

Fingeravtryck

Fördjupa i forskningsämnen för ”Investigation of polymethylmethacrylate resist residues using photoelectron microscopy”. Tillsammans bildar de ett unikt fingeravtryck.

Fysik och astronomi